消費(fèi)電子CMP材料整體解決方案
SAPOL拋光液：適用于藍(lán)寶石、陶瓷、鉭酸鋰、玻璃等非金屬材料CMP的拋光液。 
MEPOL拋光液：適用于金屬材料CMP的拋光液。
無紡布拋光墊：通常被使用于粗磨或中磨，具有一定程度的平坦性和平滑性。
阻尼布拋光墊：通常被使用于高平滑性，低欠陷性的精磨工序。 
聚氨酯拋光墊：通常被使用于要求高平坦性的拋光工程。
金屬清洗劑：小類合金材料的專用清洗劑。
拋光蠟：適用于氧化鋁、碳化硅、碳化硼、氧化鈰等常用磨料，均能提供良好持久的分散能力。

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